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用途
空蒸着時、真空蒸着する対象製品に薄膜を形成する物質で、アルミニウム(Al)、 スズ(Sn)、 ステンレス(SUS)、 チタニウム(Ti)等の原料として使用。
特徴
-
3N(99.9%)、 4N(99.99%)の高純度材料を厳選して対応できる。
- 円形、楕円形、板材形、クリップ形、環型などの多様な形状及び規格に対応可能